Le fonctionnement des sources XWS est basé sur le phénomène d’une décharge optique initiée dans un gaz Xenon sous pression. Le plasma est généré par une décharge électrique de haute tension dans le Xenon. L’état du plasma Xenon est ensuite maintenu au foyer d’un laser continu focalisé.
En comparaison avec des lampes à arc classiques, le plasma entretenu par laser offre une meilleure stabilité spatiale et temporelle, une plus forte brillance, un point source plus compact et dense, et une durée de vie considérablement étendue sans remplacement du bulbe de la lampe. Cette technologie devient donc incontournable dans divers domaines d’applications tels que : la spectroscopie d’absorption, la métrologie, la microscopie de fluorescence haute résolution, la caractérisation et l’analyse de surface.
Caractéristiques :
- Large gamme spectrale : de 190nm à 2 500nm (configuration UV) / de 240nm à 2 500nm (configuration ozon-free)
- Haute brillance jusqu’à 50mW/(mm².sr.nm)
- Puissance de sortie 3W en espace libre dans la configuration standard XWS-65
- Haute stabilité spatiale et temporelle RMS 0,25%
- Longue durée de vie environ 10 000h
Descriptif technique :
Source plasma laser ISTEQ XWS-65
